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適用于半導體等微電子設備制造商的Edwards真空泵系統
來源: Edwards真空泵系統   發布時間:2016-11-19 11:33    次瀏覽   大小:  16px  14px  12px
半導體加工 我們繼續革新領先技術解決方案,這些解決方案將會提升制程正常運轉時間、產量、吞吐量與安全認證水
  • 半導體加工

    我們繼續革新領先技術解決方案,這些解決方案將會提升制程正常運轉時間、產量、吞吐量與安全認證水平,同時通過減輕不利于環境的排放、延長產品使用壽命并降低持續服務成本,努力協調平衡往往相互沖突的更低擁有成本要求。

    所有居于領先地位的制程工具 OEM,以及全球每一家主要半導體工廠都采用了我們的系統,因為它們能夠滿足成熟制程與發展中制程的具體要求。提供干式真空泵、渦輪分子泵與使用點減排系統等各種系統,用來優化從輕負荷制程到超重負荷制程的各項應用的性能表現。

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     化學氣相沉淀
     刻蝕
     物理氣相沉淀
     計量
     離子注入
     擴散/外延附生/ALD
適用于半導體等微電子設備制造商的Edwards真空泵系統